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Plasma等離子清洗機(jī)工作(清洗)原理

文章出處:等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間:2022-05-18
等離子體是由帶正、負(fù)電荷的離子和電子,也可能還有一些中性的原子和分子所組成的集合體。plasma等離子清洗機(jī)一般由控制部分、真空腔室部分、等離子電源及耦合部分、氣體部分組成。
plasma等離子清洗機(jī)工作原理
plasma等離子清洗機(jī)結(jié)構(gòu)原理圖

Plasma等離子清洗機(jī)工作原理


Plasma等離子清洗機(jī)基本工作原理是在真空的狀態(tài)下,設(shè)備腔體內(nèi)的電極形成很高頻率的交變電場(chǎng),腔體內(nèi)的氧氣或氬氣在交變電場(chǎng)的作用下形成等離子體,腔體內(nèi)被清洗的物體在活性等離子的化學(xué)反應(yīng)和反復(fù)物理轟擊的雙重作用下,使其表面揮發(fā)物殘留、雜質(zhì)、灰塵、氧化物等變成離子或氣態(tài)物質(zhì),這些離子或氣體在真空的抽離下排出腔體,剝離出被清洗的物體表面,從而達(dá)到清洗的目的。采用這種方法能夠提升材料的粘附性與濕潤(rùn)性,去除不同類型的污染物和雜質(zhì),從而為之后的工序奠定良好的基礎(chǔ)。

氧氣清洗是利用氧氣與有機(jī)物產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng),變成二氧化氮和水蒸氣,再通過抽風(fēng)將氣體抽出的方式達(dá)到清洗的目的,清洗速度快效果好,但是不適合易于氧化的物體,只適合不易氧化的物體清洗。反應(yīng)方程式如公式(1)所示。
O2+e------>2O+e    CO2+H2O+e(1)
氬氣清洗是利用比較重氬離子以高度運(yùn)動(dòng)的物理方法打破污染有機(jī)物脆弱的化學(xué)鍵,進(jìn)而使表面污染有機(jī)物變成氣體脫離載體。反應(yīng)方程式如公式(2)所示。Plasma清洗微觀原理圖如圖1所示。
Ar+e------>Ar++2e------>Ar++CxHy(2)
plasma等離子清洗機(jī)工作原理
Plasma 清洗微觀原理圖
與傳統(tǒng)的清洗相比,plasma等離子清洗的成本低、清洗效果好、安全環(huán)保且不會(huì)造 成二次污染,同時(shí)等離子清洗不僅可以去除固體表面的污染物,還可以提高固體 表面的潤(rùn)濕性能。plasma等離子清洗機(jī)工作原理可做如下解釋:通過抽真空,對(duì)真空腔體內(nèi)的 氣體施加足夠的能量使之離化為等離子體,一方面生成的等離子體可對(duì)樣品表面 的污染物進(jìn)行分解并將其帶走,實(shí)現(xiàn)清洗目的;另一方面等離子體中的“活性組 分”會(huì)代替固體表面的聚合物官能團(tuán),增加固體表面活性,從而提高潤(rùn)濕性能。
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