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微波等離子清洗機(jī)結(jié)構(gòu)組成介紹

文章出處:等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間:2022-06-01
微波等離子清洗機(jī)總體結(jié)構(gòu)分為五個部分:設(shè)備主體、真空系統(tǒng)、微波放電系統(tǒng)、控制系統(tǒng)和供氣系統(tǒng)。微波等離子清洗設(shè)備結(jié)構(gòu)示意見圖1。其清洗過程是:在真空腔內(nèi)壓力到達(dá)一定范圍時充入工藝氣體,當(dāng)腔內(nèi)壓力為動態(tài)平衡時,利用微波源振蕩產(chǎn)生的高頻交變電磁場將氧、氬、氫等工藝氣體電離,生成等離子體,活性等離子體對被清洗物進(jìn)行物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)雙重作用,使被清洗物表面物質(zhì)變成粒子和氣態(tài)物質(zhì),經(jīng)過抽真空排出,而達(dá)到清洗目的。
微波等離子清洗機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖
圖一 微波等離子清洗機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖
真空系統(tǒng)結(jié)構(gòu)

微波等離子清洗機(jī)真空系統(tǒng)主要包括等離子工作腔、磁流體密封、真空連接管道(包含氣動角閥)、真空測量計(jì)及真空泵等。
激發(fā)的微波等離子體在工作腔內(nèi)形成特定的等離子分布,對放置在工作腔內(nèi)的被清洗工件進(jìn)行清洗及表面處理,為此,工作腔內(nèi)需要包含真空、充氣、放置樣品支架、觀察窗口等設(shè)施,以確保特定應(yīng)用的需要。

微波放電系統(tǒng)

微波源

微波放電系統(tǒng)主要由微波源及微波反應(yīng)腔組成,微波源是將交流電源轉(zhuǎn)變成微波功率的部件,典型微波源是由磁控管及其供電電源、微波傳輸系統(tǒng)、冷卻裝置等組成。

微波反應(yīng)腔
微波反應(yīng)腔是微波等離子體系統(tǒng)中最核心的元件,需要根據(jù)不同系統(tǒng)的具體要求專門設(shè)計(jì)、加工。微波反應(yīng)腔的作用在于確保微波功率在腔中形成特定的模式分布,并使之和特定的等離子體、目標(biāo)反應(yīng)物產(chǎn)生最有效的相互作用,從而穩(wěn)定的激發(fā)并維持等離子體。

微波反應(yīng)腔的主要功能歸結(jié)起來有兩條:一是最佳的功率傳輸和耦合;二是最佳的互作用效果。一般來說,微波反應(yīng)腔是這樣一套裝置或終端互作用系統(tǒng):它將微波功率以最佳的匹配或最小的反射耦合至該裝置,并在其中形成特定的電場分布,使之能與被處理的工件產(chǎn)生最佳的互作用效果。

供氣系統(tǒng)

供氣系統(tǒng)設(shè)計(jì)通過控制質(zhì)量流量計(jì)來調(diào)整和控制工藝氣體流量。

以上就是國產(chǎn)等離子清洗機(jī)廠家納恩科技關(guān)于微波等離子清洗機(jī)結(jié)構(gòu)組成的簡單介紹。微波等離子清洗機(jī)主要用于去除集成電路制程及封裝過程中所產(chǎn)生的污染物,提高工件表面活性,尤其一些敏感器件制程中的去膠和清洗。

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