真空等離子清洗機真空度影響決定什么
文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2023-02-22
真空等離子清洗機的工作流程:在壓力到達設(shè)定本底壓力時，充入工藝氣體，當腔內(nèi)壓力進出動態(tài)平衡時，利用等離子電源產(chǎn)生的中高頻交變電磁場激發(fā)生成等離子體，對被清洗工件表面進行物理轟擊與化學反應雙重作用，使被清洗物表面物質(zhì)變成粒子和氣態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過抽真空排出，而達到清洗目的。
真空度指的是真空等離子清洗設(shè)備工藝腔室的腔內(nèi)壓力，清洗腔內(nèi)的真空度是工藝氣體流量、腔體泄露率和真空泵抽速的動態(tài)平衡。在高頻電場中真空狀態(tài)下的氣體物質(zhì)通過輝光放電，轉(zhuǎn)變成等離子體狀態(tài)。被清洗器件被等離子體完全籠罩，開始清洗作業(yè)。
真空等離子清洗機真空度影響決定什么
真空等離子清洗機處理效果與真空度密切相關(guān)，只有在特定的真空度及等離子氣體氛圍內(nèi)，才能得到最佳的改性效果。真空度對材料表面處理效果影響較大，當真空度較小時，高速電子數(shù)目的增多使得各粒子的平均自由動程降低，自由電子碰撞獲得的能量不足以提供足夠被電離的活性粒子，活性基團數(shù)目少。當真空度較高時，高速電子數(shù)目減少，電子自由動程大，碰撞機會減少使得真正被電離的活性粒子數(shù)目少，活性基團數(shù)目少。
物理等離子清洗工藝模式采用的倉體真空度較小。物理等離子清洗工藝要求被激發(fā)的離子轟擊工件表面。假如倉體真空度過高，激發(fā)的離子在到達工件清洗表面之前就和其他離子產(chǎn)生多次碰撞，減低清潔效果。已激發(fā)的離子在碰撞之前所行進的距離稱為離子的平均自由路程，與倉體真空度成反比。物理等離子清洗工藝要求低壓以便于平均自由路程最大化，使碰撞轟擊達到最大。但假如倉體真空度下降太多，就沒有足夠的活性離子在有效的時間內(nèi)來清潔工件?；瘜W等離子清洗工藝產(chǎn)生的等離子體與工件表面產(chǎn)生化學反應，所以離子數(shù)越多越能增加清洗的能力，導致需要使用較高的倉體真空度。
本文由深圳等離子清洗機廠家納恩科技整理編輯?。?！真空等離子清洗機真空度的控制也是一個重要的環(huán)節(jié)，在氣體流量和功率一定情況下，要提高真空度，必須更換大抽速的泵。真空等離子清洗設(shè)備真空度控制方式通常有恒流&恒壓式（工藝氣體流量恒定，通過蝶閥角度控制或泵組頻率調(diào)整實現(xiàn)恒壓）、恒流式（工藝氣體流量恒定，真空壓力只做上限控制）、混合式（通過調(diào)節(jié)工藝氣體流量實現(xiàn)壓力控制）三種。第一種最穩(wěn)定，但設(shè)備結(jié)構(gòu)復雜，成本高，一般只有半導體晶圓制造工序選用；第二種最常見，實際真空會隨著泵組能力而變化，新泵的抽真空能力強，清洗效果較好；隨著時間推移，泵的抽速下降，清洗效果變差；第三種運行穩(wěn)定性不好，不僅壓力不穩(wěn)定，工藝氣體流量也在變化，工藝穩(wěn)定性難以保證。
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