利用等離子體處理來實(shí)現(xiàn)細(xì)胞培養(yǎng)皿親水化的TC處理
文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2022-12-23
以前市面上細(xì)胞培養(yǎng)耗材多為玻璃材質(zhì), 玻璃具有親水性, 所以表面不需要經(jīng)過特殊處理，但是在實(shí)際使用過程中存在清潔不干凈, 易污染樣本等缺點(diǎn)。隨著科技的快速發(fā)展, 各種高分子材料 (比如聚苯乙烯 PS) 逐步取代了玻璃材質(zhì), 成為細(xì)胞培養(yǎng)耗材的基本加工原料。
聚苯乙烯為非晶態(tài)無規(guī)聚合物, 具有透明性, 其制品具有極高的透明度, 透光率可達(dá) 90%以上, 利于在顯微鏡下觀察細(xì)胞培養(yǎng)狀態(tài), 另外其具有易著色, 加工流動(dòng)性好, 剛性好及耐化學(xué)腐蝕性好等優(yōu)點(diǎn)。
但是聚苯乙烯表面是疏水的, 為了確保貼壁細(xì)胞可以很好的貼附在耗材表面, 細(xì)胞培養(yǎng)耗材的表面需要經(jīng)過特殊的改性處理, 在表面引入親水因子, 以適應(yīng)貼壁細(xì)胞的生長與繁殖, 這種處理被稱為TC 表面處理 Tissue Culture Treated。
TC處理適用于細(xì)胞培養(yǎng)皿, 細(xì)胞培養(yǎng)板, 細(xì)胞爬片, 細(xì)胞培養(yǎng)等。這里我們使用等離子表面處理設(shè)備來實(shí)現(xiàn)細(xì)胞培養(yǎng)皿的 TC 表面理。
等離子處理細(xì)胞培養(yǎng)皿
等離子體是由帶電粒子(正離子、負(fù)離子、電子)、光子、中性粒子(原子、分子、自由基和活性基團(tuán))組成的宏觀呈電中性的電離態(tài)氣體。與物質(zhì)通常的3種狀態(tài)(固、液、氣)相比，等離子體無論在組成還是在性質(zhì)上，均有本質(zhì)的差別。因此，等離子體也被稱為物質(zhì)的第四態(tài)。
等離子體包含大量活性粒子，如高能電子、離子、自由基、激發(fā)態(tài)的氣體原子和分子以及光子等，其能量可通過輻射、中性粒子流和離子流的碰撞等作用于材料表面，這些粒子與材料表面發(fā)生諸如刻蝕和清潔、氧化、接枝、活化、聚合等相互用，以此改善材料的表面特性，如表面粗糙化、表面清潔、表面化學(xué)基團(tuán)引入和表面親水性改變等。
在實(shí)際的貼壁細(xì)胞培養(yǎng)實(shí)驗(yàn)中，由于貼壁細(xì)胞需要伸展在培養(yǎng)材料的表面才能增長的特性，故培養(yǎng)器皿的親水性直接影響著細(xì)胞的生長。因此，培養(yǎng)器皿的親水性能好壞是決定著培養(yǎng)器皿的質(zhì)量的重要指標(biāo)有明顯影響，而且對(duì)細(xì)胞的生長量有很大影響。
向等離子清洗機(jī)通入反應(yīng)氣體，反應(yīng)氣體在等離子清洗機(jī)中電離出活性基團(tuán)，包括氨基、羧基等，活性基團(tuán)在細(xì)胞培養(yǎng)皿表面對(duì)細(xì)胞培養(yǎng)血進(jìn)行表面親水改性處理，在活化的材料表面會(huì)發(fā)生復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，引入新的官能團(tuán)，能明顯提高細(xì)胞培養(yǎng)皿的表面活性，有效提高細(xì)胞培養(yǎng)皿的表面親水能力。補(bǔ)充可電離氣體包括氧氣、氨氣，以產(chǎn)生更多的電荷通過等離子清洗機(jī)進(jìn)行處理，從而增加培養(yǎng)器皿表面的親水性。
細(xì)胞培養(yǎng)皿等離子處理前后水滴角對(duì)比
可以看到經(jīng)過等離子處理后細(xì)胞培養(yǎng)皿的水滴角已經(jīng)大幅度下降了
真空等離子清洗機(jī)處理細(xì)胞培養(yǎng)皿作用及優(yōu)點(diǎn)：
作用:
1. 對(duì)產(chǎn)品表面預(yù)清潔:O2等離子體可以吸附附著在產(chǎn)品表面的微小顆粒物及其他污染物, 通過真空泵把混合氣體抽出真空腔, 達(dá)到預(yù)清潔的效果
2. 增大產(chǎn)品表面張力, 使得產(chǎn)品的水接觸角明顯減小, 匹配合適的等離離子能量和濃度, 可以做到產(chǎn)品表面水接觸角 WCA＜10°.
3. O2等離子體在產(chǎn)品表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng), 產(chǎn)品表面可以增加很多功能性官能團(tuán), 包括羥基 (-OH ), 羧基 ( -COOH ), 羰基 ( -CO- ）, 氫過氧基 (-OOH ) 等, 這些活性官能團(tuán)在細(xì)胞培養(yǎng)過程中可以提高培養(yǎng)速度和活性.
優(yōu)點(diǎn):
1. 處理溫度低:真空等離子體的處理溫度可以低至80℃，甚至50℃以下，溫度可控制在20-40℃。低的處理溫度能夠確呆聚本，烯制的一次性細(xì)胞培養(yǎng)服表面不受熱影響。
2. 處理全程無污染:等離子清洗機(jī)本身是很環(huán)保的設(shè)備，不產(chǎn)生任何污染，處理過程也不產(chǎn)生任何污染。因此，可以與原有生產(chǎn)流水線搭配，實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)在線生產(chǎn)，以節(jié)約人力成本。
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