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低溫等離子體
概述
低溫
等離子體
也稱非平衡態(tài)等離子體,一般是指電子、離子、中性粒子的溫度Te,Ti,Tn,滿足Te>>Ti且Te>>Tn。之所以稱為低溫等離子體,主要是質(zhì)量大的離子和作為等離子體本體的中性粒子一般都處在室溫,它整體對(duì)外表現(xiàn)出很低的溫度;而又被稱為非平衡態(tài)等離子體,主要是電子的溫度可以達(dá)到幾個(gè)eV(幾萬度),與離子、中性粒子沒有達(dá)到熱平衡。
一般在低氣壓下,通過氣體放電就可以產(chǎn)生低溫等離子體。對(duì)氣體施加電壓,一些游離的電子在外電場(chǎng)的作用下開始加速,高速的電子會(huì)與氣體的原子或分子發(fā)生碰撞。如果電子的能量沒有達(dá)到原子的最低電離能,電子就會(huì)跟原子發(fā)生彈性碰撞,由于電子的質(zhì)量遠(yuǎn)小于原子的質(zhì)量,在彈性碰撞中電子幾乎不失去能量,而接著被電場(chǎng)加速。當(dāng)電子的能量達(dá)到原子的最低電離能時(shí),就會(huì)發(fā)生非彈性碰撞,原子吸收電子的能量而發(fā)生電離,除了發(fā)生電離外,還會(huì)有激發(fā)躍遷、退激輻射,產(chǎn)生大量的光子和處于亞穩(wěn)態(tài)的原子;如果氣體含有分子和化合物,由于低溫等離子體的碰撞不是很劇烈,會(huì)有游離態(tài)的未成對(duì)的原子和中性基團(tuán)產(chǎn)生,它們都具有很高的化學(xué)活性。
低溫等離子體兩面性的表現(xiàn)就是除了具有經(jīng)典的物理特性外,還具有化學(xué)活性。其實(shí)它的化學(xué)活性是由其微觀結(jié)構(gòu)中的非彈性碰撞來決定的,說到底還是原子物理的成分,包括分子、原子的激發(fā)、電離和離解,但是它化學(xué)活性的核心就是這些非彈性碰撞的生成物-活性基團(tuán)(高能電子,亞穩(wěn)態(tài)原子,中性基團(tuán),光子),這些活性基團(tuán)極其不穩(wěn)定,很容易重新組合成新物質(zhì)。
以
氧等離子體
為例,氧分子在電子的非彈性碰撞下會(huì)產(chǎn)生電離、激發(fā)和離解,會(huì)有氧離子O
2
+
,激發(fā)態(tài)的氧分子O
2
*
,游離態(tài)的氧原子O生成,這個(gè)基團(tuán)都是具有很強(qiáng)的化學(xué)活性的基團(tuán)。
電離:e+O
2
→O
2
+
+2e
激發(fā):e+O
2
→O
2
*
+e
離解:e+O
2
→O+O+e
而且電離的發(fā)生會(huì)有很多帶電基團(tuán)生成如電子e和離子O
2
+
,它們?cè)陔妶?chǎng)的作用下會(huì)加速,高速的電子和離子會(huì)與材料表面發(fā)生碰撞而發(fā)生一些化學(xué)反應(yīng),它們的作用也不容忽視。
低溫等離子體以其活波的化學(xué)活性見長(zhǎng),所以它的應(yīng)用主要也是以化學(xué)應(yīng)用為主,主要就是應(yīng)用在新型材料的制備和對(duì)材料進(jìn)行表面改性方面。而且利用低溫等離子體方面制備材料與傳統(tǒng)化學(xué)方法相比有很多優(yōu)點(diǎn),以低溫等離子體的干法刻蝕與以往用腐蝕液進(jìn)行的濕法刻蝕相比為例,優(yōu)點(diǎn)有以下幾點(diǎn)。第一,濕法刻蝕產(chǎn)生大量廢液,造成公害,采用氣體的干法刻蝕避免了廢液處理問題,排出廢氣的凈化處理過程也較方便簡(jiǎn)單。第二,濕法刻蝕必須在高溫條件下進(jìn)行,而干法刻蝕低溫時(shí)就可獲得較高的反應(yīng)速度,主要就是利用低溫等離子體中含有大量的活性基團(tuán)。第三,濕法刻蝕通常是由液體與基板的接觸點(diǎn)開始各相同性地進(jìn)行,而反應(yīng)性離子刻蝕可以沿著離子地入射方向?qū)崿F(xiàn)非各相同性刻蝕。而且低溫等離子體刻蝕特別適用于需要進(jìn)行高精細(xì)加工的期間制作上。而且低溫等離子體的表面改性技術(shù)可以是一些聚合物表面性能(親水性,粘結(jié)性)發(fā)生很大的改觀,是其他化學(xué)方法都無法完成的。
不過在使用低溫等離子體制備新型材料和對(duì)材料進(jìn)行表面改性時(shí),必須要有穩(wěn)定的等離子體源及等離子體診斷,它們是與低溫等離子體應(yīng)用不可分割的整體。
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