真空等離子清洗設(shè)備工作原理及其結(jié)構(gòu)組成介紹
文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2024-10-09
真空等離子清洗設(shè)備可在真空環(huán)境下通過對(duì)氣體施加較高能量使其轉(zhuǎn)化為等離子狀態(tài)，組成等離子狀態(tài)的活性組分有離子、電子和活性基團(tuán)等，這些活性組分對(duì)試件表面進(jìn)行“轟擊”，起到表面清潔、改性等作用。以下是關(guān)于它的詳細(xì)介紹：
真空等離子清洗設(shè)備工作原理：
在真空環(huán)境下，向腔體內(nèi)通入氣體（如氬氣、氧氣、氮?dú)獾龋?，然后通過高頻電場(chǎng)使氣體分子電離，形成等離子體。等離子體中包含大量的活性粒子，如離子、電子、自由基、激發(fā)態(tài)的原子和分子等。這些活性粒子具有很高的能量，能夠與材料表面發(fā)生物理和化學(xué)反應(yīng)，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面的處理。
結(jié)構(gòu)組成：
真空發(fā)生系統(tǒng)：負(fù)責(zé)抽取腔體內(nèi)的空氣，創(chuàng)造并維持所需的真空環(huán)境，通常由真空泵等設(shè)備組成。
真空反應(yīng)系統(tǒng)：即處理腔體，是進(jìn)行等離子體處理的主要場(chǎng)所，其材質(zhì)和尺寸會(huì)根據(jù)不同的應(yīng)用需求而有所不同，常見的有不銹鋼腔體、鋁合金腔體和石英腔體。
人機(jī)界面工控系統(tǒng)：方便操作人員設(shè)置和監(jiān)控處理過程的參數(shù)，如處理時(shí)間、功率、氣體流量等，一般采用觸摸屏。
等離子體發(fā)生器：產(chǎn)生高頻電場(chǎng)，使氣體電離形成等離子體，其頻率等參數(shù)是影響等離子體特性的重要因素。
氣路控制系統(tǒng)：用于控制氣體的通入量、種類以及氣體的切換等，確保等離子體處理過程中氣體的供應(yīng)穩(wěn)定和準(zhǔn)確。
機(jī)架：起到支撐和固定其他部件的作用，保證設(shè)備的穩(wěn)定性。
真空等離子清洗設(shè)備優(yōu)點(diǎn)：
處理效果好：能夠有效去除材料表面的微小污染物、氧化物和有機(jī)殘留物等，同時(shí)可以改善材料的表面性能，如提高表面能、增強(qiáng)附著力、改善潤濕性等。
環(huán)保無污染：處理過程中不使用化學(xué)溶劑，不會(huì)產(chǎn)生廢水、廢氣等污染物，符合環(huán)保要求。
適用范圍廣：適用于各種材料，包括金屬、陶瓷、塑料、玻璃等，并且對(duì)材料的形狀和尺寸沒有嚴(yán)格限制，無論是平面、曲面還是復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)都可以進(jìn)行處理。
處理溫度低：可以在較低的溫度下進(jìn)行處理，尤其適用于對(duì)熱敏感材料，避免了因高溫處理而導(dǎo)致材料性能的變化。
可控性強(qiáng)：可以精確控制處理參數(shù)，如處理時(shí)間、功率、氣體流量等，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)處理效果的精確控制。
常見應(yīng)用領(lǐng)域：
電子行業(yè)：在半導(dǎo)體制造中，可用于芯片的清洗、光刻膠的去除、表面活化等，提高芯片的性能和可靠性；在電路板制造中，能夠去除電路板表面的污染物，增強(qiáng)焊錫的附著力。
汽車行業(yè)：用于汽車零部件的表面處理，如點(diǎn)火線圈骨架的清洗、發(fā)動(dòng)機(jī)油封片的表面改性等，提高零部件的粘接強(qiáng)度和密封性。
生物醫(yī)療領(lǐng)域：可以處理醫(yī)療器械、生物材料等，提高其表面的親水性、生物相容性。
包裝印刷行業(yè)：對(duì)包裝材料進(jìn)行表面處理，提高印刷的附著力和包裝的密封性。
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