三
等離子刻蝕的基本原理是利用所需的等離子體對(duì)晶圓表面進(jìn)行物理轟擊并且同時(shí)發(fā)生產(chǎn)生易于揮發(fā)的化學(xué)反應(yīng)，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)晶圓的刻蝕過(guò)程。...
2024-03-18
氧等離子體處理親水原理可以認(rèn)為是受兩個(gè)因素的雙重影響：（1）氧等離子體對(duì)材料表面的蝕刻效應(yīng)造成了材料表面形貌在納米尺度的改變；（2）氧等離子體處理后在材料表面引入了新的基團(tuán)，例如-OH、-COOH等親水基團(tuán)。需注意的是通過(guò)氧等離子體轟擊進(jìn)行的親水處理一般具有時(shí)效性。...
2024-03-14
等離子清洗技術(shù)是一種高效的清洗方法，激發(fā)態(tài)的氫氣與氧化物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，將氧化無(wú)還原為單質(zhì)和水蒸氣，可以很有效的去處表面氧化物。 ...
2024-03-14
在整個(gè)大規(guī)模集成電路制造過(guò)程中，近三分之一的工序是借助于等離子體技術(shù)來(lái)完成，在大規(guī)模集成電路制造的主要流程中，薄膜沉積、刻蝕、離子注入與清洗等過(guò)程都需要等離子體技術(shù)來(lái)輔助完成。...
2024-02-23
綜述了近年來(lái)研究者對(duì)材料表面常用的處理方法，主要包括物理法、機(jī)械法以及化學(xué)法的研究進(jìn)展，介紹了表征材料表面結(jié)構(gòu)，化學(xué)組成以及表面形貌常用的分析方法。通過(guò)對(duì)材料表面進(jìn)行處理從而達(dá)到提高粘接性能的目的。...
2024-02-21
有研究報(bào)道，通過(guò)氧等離子體處理可以獲得溶液法制備的高質(zhì)量的SnO2薄膜。表明具有高能離子態(tài)的氧自由基團(tuán)能夠?qū)Ρ∧ぶ械难跞毕輵B(tài)起到一定填充作用。將這一工藝用于制備ZrO2介電層，可以在對(duì)介電薄膜有最小損傷的同時(shí)提高基于ZrO2的TFT的電學(xué)性能。另外，ZrO2具有較高的與氧結(jié)合能，也有利于氧相關(guān)表面缺陷的鈍化。...
2024-02-01
在封裝工藝過(guò)程中，引線框架容易被氧化，在表面形成包含氧化銅和氧化亞銅的氧化層，其結(jié)構(gòu)較為疏松，這將不利于引線框架與塑封體的結(jié)合，在行業(yè)內(nèi)通常采用等離子清洗的方式去除引線框架表面的氧化層。...
2024-01-22
隨著等離子清洗技術(shù)的不斷進(jìn)步與廣泛應(yīng)用，其等離子體產(chǎn)生方式也從直流輝光放電產(chǎn)生等離了體發(fā)展到射頻激發(fā)等離子體，微波等離子體，脈沖等離子體清洗等。...
2024-01-18
微波等離子是由工作頻率為2.45GHz的微波激發(fā)工藝氣體放電,在正負(fù)極磁場(chǎng)作用下的諧振腔體內(nèi)產(chǎn)生等離子體，該諧振腔體位于反應(yīng)倉(cāng)體旁邊，磁控管連接微波發(fā)生器，因?yàn)檎麄€(gè)放電過(guò)程不需要正負(fù)電極，所以產(chǎn)生自偏壓極小，從根本上避免了靜電放電損傷。...
2024-01-10
等離子清洗的效果會(huì)優(yōu)于電暈的效果，處理均勻性方面等離子清洗也優(yōu)于電暈處理，從產(chǎn)品形狀方面考慮，等離子清洗對(duì)產(chǎn)品形狀沒(méi)有限制，電暈處理適合薄膜卷料產(chǎn)品。...
2023-12-29
等離子體清洗機(jī)主要具有以下四大作用;1、表面清洗作用2、表面刻蝕作用3、表面活化作用4、表面接枝聚合作用。等離子在進(jìn)行清洗去污的同時(shí),還能改變材料本身的表面性能，如潤(rùn)濕性，粘附性等。...
2023-12-27
噴射型等離子清洗機(jī)是一款高性價(jià)比、安裝簡(jiǎn)便、可配合流水線和自動(dòng)化設(shè)備使用表面清洗設(shè)備?？偟膩?lái)說(shuō)，噴射型等離子清洗機(jī)適合應(yīng)用在材料處理難度較低，需要在線應(yīng)用的場(chǎng)景。...
2023-12-21
廣東省深圳市光明區(qū)華明城高新產(chǎn)業(yè)園A棟5樓 
133-8039-4543