離子濺射儀NE-900依據(jù)二極(DC)直流濺射原理。濺射電流調(diào)整控制器、微型真空氣閥在工作時結(jié)合內(nèi)部自 動控制電路控制真空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體。根據(jù)電場中氣體電離特性,采用大容量樣品濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶,使濺射鍍層均勻純凈。
離子濺射儀NE-900產(chǎn)品特點:
1、簡單、經(jīng)濟、可靠、外觀精美。
2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
3、SETPLASMA 手動啟動按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。
4、真空保護可避免真空過低造成設(shè)備短路。
5、同時可以通過更換不同的靶材(金、鉑、銥、銀、銅等),以達到更細顆粒的涂層。 6、通過通入不同的惰性氣體以達到更純凈的涂層。
型號 |
離子濺射儀NE-900 |
主機規(guī)格 |
300mm×360mm×380mm(W×D×H) |
靶(上部電極) |
50mm×0.1mm(D×H) |
靶材 |
Au(標配) |
樣品室 |
硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm(D×H) |
靶材尺寸 |
Ф 50mm |
真空指示表 |
最高真空度:≤ 4X10-2 mbar |
離子電流表 |
最大電流:50mA |
定時器 |
最長時間:0-360S |
微型真空氣閥 |
可連接φ 3mm 軟管 |
可通入氣體 |
多種 |
最高電壓 |
-1600 DCV |
機械泵 |
標準配置 2L/S(國產(chǎn) VRD-8) |