三
氧等離子體清洗機(jī)不發(fā)光不產(chǎn)生等離子體的主要問題有以下幾種情況：（1）射頻電源損壞。（2）真空問題。（3）壓力過大或過低。...
2023-02-17
由于等離子體內(nèi)部的粒子能量有限和固體表面的致密結(jié)構(gòu)等原因，等離子體對材料的處理深度僅局限在固體的表層，因此能保證深層的基體的原有的性能，同時(shí)賦予材料表面新的性能，所以等離子體和材料的表面作用對新型材料的研發(fā)和探索具有重要意義。根據(jù)等離子體與材料表面反應(yīng)的種類可分為：物理作用、化學(xué)作用和能量的傳遞作用。...
2023-02-16
氧等離子體清洗機(jī)的工作原理是在真空腔里通過射頻電源在一定壓力狀態(tài)下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗樣品表面以達(dá)到清洗目的。...
2023-02-16
氧等離子體清洗機(jī)的作用主要包括以下三個(gè)方面：1. 氧等離子體主要起到表面清潔，以及去除表面有機(jī)污染物的作用。2. 經(jīng)過氧等離子體刻蝕作用后,材料表面的物理形貌及粗糙度會(huì)產(chǎn)生變化。3.氧等離子體可以增加基片表面羥基基團(tuán)的密度，提升親水性。...
2023-02-16
等離子體常被視為是固、液、氣外物質(zhì)存在的第四態(tài)，在機(jī)械加工、制備新物質(zhì)、處理物體表面和聚酯織物、消毒滅菌等方面有著廣泛應(yīng)用。半導(dǎo)體工業(yè)是等離子體發(fā)生器應(yīng)用最多的行業(yè)——在半導(dǎo)體芯片的制備過程中，約有1/3的工序要使用等離子體技術(shù)。...
2023-02-15
溫度是等離子體產(chǎn)生的極重要因素，太陽及太陽風(fēng)(太陽日冕)、熱核聚變就是典型的例子，研究不同溫度下等離子清洗系統(tǒng)內(nèi)等離子的密度活性，處理速度及均勻性，可選擇性地得到適宜的材料處理種類及厚度和處理后表面材料特性，水冷式等離子清洗機(jī)可以避免對基材表面產(chǎn)生熱損傷。...
2023-02-14
線性寬幅等離子清洗機(jī)對比傳統(tǒng)大氣等離子清洗機(jī)有著如下優(yōu)勢：放電區(qū)域與材料處理區(qū)域分離的優(yōu)勢，由于等離子體被隔離，所以不會(huì)出現(xiàn)靜電損傷的問題，放電模式穩(wěn)定，能產(chǎn)生長度為400-800mm的連續(xù)均勻等離子體，意味著能夠在處理大尺寸產(chǎn)品時(shí)能夠有更高的清洗效率。...
2023-02-07
低壓等離子清洗機(jī)主要由四個(gè)部分組成，包括：氣體供給系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、放電腔室和等離子體電源。將待處理物放置在放電環(huán)境放電腔室中，抽真空后低氣壓下產(chǎn)生的等離子體是一種低溫等離子體，氣體溫度大約在幾十到二三百攝氏度，遠(yuǎn)低于電子溫度，但又具有少量足夠高能的粒子，有足夠的能量處理固體表面，在一定使用范圍內(nèi)也不會(huì)損傷基體。...
2023-02-07
等離子清洗工藝是芯片封裝過程中重要的清洗方法，有清洗對象廣泛、無環(huán)境污染的優(yōu)點(diǎn)。經(jīng)過等離子清洗后，引線框架的鍵合質(zhì)量得到顯著提高，從而獲得良好的可靠性。...
2023-02-06
經(jīng)過大氣低溫等離子體處理后，樹脂基復(fù)合材料表面接觸角減小，潤濕性與表面能增加，樹脂基復(fù)合材料表面發(fā)生刻蝕，表面微觀形貌發(fā)生變化，表面粗糙度增加了約2.5倍，根據(jù)機(jī)械互鎖理論，粗糙度增加有利于粘接強(qiáng)度的提高。...
2023-02-06
大氣壓低溫等離子體材料表面改性屬于干式處理，與其他表面改性方法相比，其突出優(yōu)點(diǎn)為：能耗低，污染?。惶幚頃r(shí)間短且效率高，可在大氣壓條件下連續(xù)運(yùn)行；反應(yīng)溫度低，可實(shí)現(xiàn)對熱敏材料的無損處理；對材料表面的作用深度僅幾納米至幾微米，對材料本體特性無影響；對處理材料無嚴(yán)格要求，普適性好。...
2023-01-13
由于空氣等離子清洗處理使基體表面帶上了許多活性官能團(tuán)的緣故，所以該等離子層和基體之間有部分化學(xué)鍵連接，使涂層基材體系成為一體，所以等離子層的出現(xiàn)增強(qiáng)了涂層與基體之間的濕附著力，對涂層的防剝離性能有著顯著地提高。...
2023-01-12
廣東省深圳市光明區(qū)華明城高新產(chǎn)業(yè)園A棟5樓 
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